在半導體制造領域，光刻工藝可以說是所有制造環(huán)節(jié)里最復雜的一道了。由此，無論是光刻機還是光刻膠都是大家關注的焦點，甚至在網(wǎng)絡上也成為了熱門話題不過相對而言，似乎光刻掩模版相關的話題熱度就少了很多。其實這個領域也并不簡單，在光刻掩模版及其上游供應鏈里也存在著大量的機會，值得行業(yè)關注

最近看到有人在微信群里討論相關話題，我便想起自己電腦正好有相關供應商的數(shù)據(jù)，便順手整理出來供大家參考這個表格里除了掩模版本身，也同時收錄了其上游材料和配套產(chǎn)品的信息，供大家一并參考另外，目前我對掩模版（PhotoMask）的分類是按照應用領域進行區(qū)分的。如果按照技術(shù)路徑區(qū)分，掩模版還可以分成Binary、Phase Shift、EUV等多種類型。限于篇幅，我在這篇文章里就不展開細聊了我的線上課程里后續(xù)會安排一節(jié)光刻技術(shù)的課程，我爭取在這堂課里把光刻工藝、光刻機、光刻膠以及掩模版的基本原理和相關行業(yè)知識都講清楚歡迎有興趣的朋友屆時報名，參與線上交流。謝謝

最后還是給我的線上課程帶一下貨：10月31號，我會和大家討論一下半導體制造的一些基本概念。按照傳統(tǒng)，每次課上第一部分，我會仔細和大家講一下半導體市場的景氣度以及后市預測

有興趣的朋友，務必報名參加討論。期待你的加入，謝謝