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走過路過不要錯過,進來看看全球半導體CVD/ALD設備商統(tǒng)計數(shù)據(jù)吧

2024/11/06
2028
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昨天發(fā)布了設備電源、離子源的供應商數(shù)據(jù),我正考慮接下來發(fā)布什么數(shù)據(jù)時,就有我知識星球的會員私信向我要CVD設備的供應商數(shù)據(jù)

好吧,那我就整理發(fā)布一下吧,順便把ALD的也一并發(fā)布了

之前看到過網上流傳的外媒整理的各類半導體設備國產替代難度的分布圖,當時我就有個沖動,就按照這個圖里的信息把每個種類設備的全球供應商都梳理一遍

不過,這個原作者似乎也不是特別專業(yè)。在圖里把所有的CVD設備都歸為一類,而且有些想當然地把替代難度設置得非常低 ...

事實上,CVD也就是化學氣相淀積(Chemical Vapor Deposition)的技術路徑非常多,而且各自的應用領域和技術門檻都完全不一樣。歸到一類有些太莽撞了

我的數(shù)據(jù)表格里把CVD做了相對細致的分類,當然也不能說非常全面。下面是各種CVD/ALD技術種類的中英文名稱表。大家可以參考一下:

化學氣相淀積 CVD Chemical Vapor Deposition

常壓CVD APCVD Atmospheric pressure CVD

準常壓CVD SACVD Sub-atmospheric CVD

低壓CVD LPCVD Low Pressure CVD

超低壓CVD UHVCVD Ultra-High Vacuum CVD

等離子增強CVD PECVD Plasma Enhanced CVD

高密度等離子CVD HDPCVD High-density Plasma CVD

金屬有機CVD MOCVD Metalorganic CVD

等離子輔助MOCVD PA-MOCVD Plasma Activated Metalorganic CVD

混合物理化學氣相沉積 HPCVD Hybrid Physical–chemical Vapor Deposition

快速熱處理CVD RTCVD Rapid Thermal CVD

激光CVD LCVD Laser CVD

直接液體注入CVD/ALD DLI-CVD/ALD Direct Liquid Injection CVD/ALD

FCVD Flowable CVD

原子層沉積 ALD Atomic-layer Deposition

按照我目前整理的分類,我收集到了全球88家供應商的產品數(shù)據(jù),供大家參考

注)這個只是半導體領域的供應商名單。其它工業(yè)領域也會用到CVD、ALD設備,但這些就不在我的統(tǒng)計范圍內了

大家參考一下,有問題歡迎和我交流

我把前道晶圓制造設備分成了11個大類(光刻、涂膠顯影、CVD、PVD、其它成膜、離子注入、熱處理、干法、濕法、CMP、檢測量測)。每一個大類我都已經按照上表的形式做了更細致分類??偣彩占?strong>366家供應商,都按照細致產品分類打了標簽

整張表格完全展開后的截圖如下(每一種顏色代表一大類設備)。圖實在太大了, 所以縮小圖根本看不清楚 ...

上圖左側箭頭所指紅框內的分類標簽放大后如下:

大家如果對這些數(shù)據(jù)感興趣,歡迎來我的知識星球獲取原始EXCEL文檔

我收集了近十年的行業(yè)數(shù)據(jù)已經覆蓋了大半個產業(yè)鏈,還有大量的原創(chuàng)行業(yè)景氣度數(shù)據(jù)分析和研報?,F(xiàn)在所有數(shù)據(jù)原始文檔都放到云盤上,給你個一鍋端走的機會(云盤直接同步我電腦硬盤,隨時更新)原價2198元,折后僅需要1598元(特別說明:平臺可以開發(fā)票)

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