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  • 正文
    • 1. Interposer材料和結(jié)構(gòu)
    • 2. 性能需求
    • 3. 應(yīng)用場景
    • 4. 技術(shù)成熟度和制造復(fù)雜性
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臺積電為什么將CoWoS封裝技術(shù)分為三種類型S、R、L?

01/15 14:50
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現(xiàn)回復(fù)熱心讀者,臺積電將CoWoS封裝技術(shù)分為三種類型——CoWoS-S(Silicon Interposer)、CoWoS-R(RDL Interposer)以及CoWoS-L(Local Silicon Interconnect and RDL Interposer),主要是基于以下幾個(gè)關(guān)鍵條件和考慮來劃分的:

1. Interposer材料和結(jié)構(gòu)

CoWoS-S (Silicon Interposer): 使用硅中介層作為主要的連接媒介。這種結(jié)構(gòu)通常具有高密度的I/O互連,適合高性能計(jì)算和大規(guī)模集成電路的需求。硅中介層的優(yōu)勢在于其精密的制造工藝和優(yōu)越的電性能。

CoWoS-R (RDL Interposer): 使用重新布線層(RDL)中介層。這種類型的封裝主要用于降低成本和適應(yīng)不同類型的器件連接需求,RDL具有更大的設(shè)計(jì)靈活性,可以支持更多的芯片連接。

CoWoS-L (Local Silicon Interconnect and RDL Interposer): 結(jié)合局部硅互連和RDL中介層,利用兩者的優(yōu)點(diǎn)以實(shí)現(xiàn)更高效的封裝和連接。這種結(jié)構(gòu)適合復(fù)雜的系統(tǒng)集成,能夠在單一封裝中實(shí)現(xiàn)更復(fù)雜的電路設(shè)計(jì)。

2. 性能需求

高性能需求: CoWoS-S由于使用硅中介層,能夠支持更高的帶寬和更低的延遲,適合高性能計(jì)算和數(shù)據(jù)中心應(yīng)用。

靈活性和成本: CoWoS-R提供了更高的設(shè)計(jì)靈活性和成本優(yōu)勢,適用于需要不同芯片之間靈活互連的應(yīng)用場景,如消費(fèi)電子和部分工業(yè)應(yīng)用。

綜合需求: CoWoS-L通過結(jié)合局部硅互連和RDL中介層,滿足了性能和成本之間的平衡,適用于需要高性能和靈活連接的應(yīng)用。

3. 應(yīng)用場景

CoWoS-S: 主要用于需要極高性能和高密度互連的應(yīng)用,如高性能計(jì)算(HPC)、人工智能AI)加速器和高端服務(wù)器。

CoWoS-R: 適用于需要降低封裝成本并且具有一定性能需求的應(yīng)用,如消費(fèi)類電子產(chǎn)品和中端服務(wù)器。

CoWoS-L: 適用于需要兼顧性能和成本的應(yīng)用,如網(wǎng)絡(luò)設(shè)備、通信基站和某些高端消費(fèi)電子產(chǎn)品。

4. 技術(shù)成熟度和制造復(fù)雜性

CoWoS-S: 由于其制造工藝復(fù)雜且對精度要求高,通常只在對性能要求極高且能夠承受較高制造成本的應(yīng)用中使用。

CoWoS-R: 制造相對簡單,成本較低,適合大規(guī)模生產(chǎn)和應(yīng)用。

CoWoS-L: 制造復(fù)雜度介于CoWoS-S和CoWoS-R之間,能夠?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜系統(tǒng)集成的需求。

通過以上幾個(gè)方面的考慮,臺積電能夠根據(jù)不同客戶和市場需求提供相應(yīng)的CoWoS封裝技術(shù)類型,以滿足多樣化的應(yīng)用和性能需求。

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