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光罩(英文:Reticle, Mask),在制作IC的過程中,利用光蝕刻技術(shù),在半導(dǎo)體上形成圖型,為將圖型復(fù)制於晶圓上,必須透過光罩作用的原理,類似于沖洗照片時(shí),利用底片將影像復(fù)制至相片上。
光罩(英文:Reticle, Mask),在制作IC的過程中,利用光蝕刻技術(shù),在半導(dǎo)體上形成圖型,為將圖型復(fù)制於晶圓上,必須透過光罩作用的原理,類似于沖洗照片時(shí),利用底片將影像復(fù)制至相片上。收起
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