第十四屆中國國際納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)博覽會（簡稱“納博會”）在萬眾矚目中圓滿落下了帷幕。這場全球納米科技領(lǐng)域盛會，以1場主報告、13場分論壇、1場創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)大賽，1場新產(chǎn)品發(fā)布會為主，匯聚了全球納米科技領(lǐng)域的18位院士，450多位高校研究院所、上市公司、知名企業(yè)機構(gòu)的頂級專家代表出席，分享專業(yè)報告476場，較往屆增加132場，同比增長約33%，吸引9663位嘉賓參會聽會。

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佳能半導(dǎo)體機器業(yè)務(wù)部長巖本和德表示，佳能采用納米壓印技術(shù)的光刻機有望生產(chǎn)2nm芯片，且成本可以降至傳統(tǒng)光刻設(shè)備的一半。在巖本和德發(fā)聲的4天以前，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML宣布，已向英特爾交付了全球首臺High NA（高數(shù)值孔徑）EUV（極紫外）光刻系統(tǒng)，支持2nm制程及以下工藝的芯片制造。

日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備，該設(shè)備執(zhí)行電路圖案轉(zhuǎn)移。佳能據(jù)介紹，佳能的納米壓印光刻（Nano-Imprint Lithography，NIL）技術(shù)可實現(xiàn)最小線寬14nm的圖案化，相當(dāng)于生產(chǎn)目前最先進的邏輯半導(dǎo)體所需的5nm節(jié)點。此外，隨著掩模技術(shù)的進一步改進，NIL有望實現(xiàn)最小線寬為10nm的電路圖案，相當(dāng)于2nm節(jié)點。NanoimprintLithography(NIL)，是一種新型的微納加工技術(shù)。該技術(shù)將設(shè)計并制作在模板上的微小圖形，通過壓印等技術(shù)轉(zhuǎn)移到涂有高分子材料的硅基板上。納米壓印的分辨率由所用印模板圖形的大小決定，物理上沒有光刻中的衍射限制，納米壓印技術(shù)可以實現(xiàn)納米級線寬的圖形。

2021年全球集成電路、面板、LED用光刻機出貨約650臺，較2020年增加70臺。其中集成電路制造用光刻機出貨約500臺；面板、LED用光刻機出貨約150臺。