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2nm工藝

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  • 先進制程巨頭“聯(lián)姻”，一場怎樣的陽謀？
    全球半導(dǎo)體先進制程正陷入一種前所未有的“膠著態(tài)”。在2nm工藝的全球競賽進入倒計時之際，英特爾代工仍在虧損，急于找到有效的“輸血”途徑；臺積電則在關(guān)稅等陰云籠罩下,為求得一條平衡全球業(yè)務(wù)布局的道路而不停奔波。
    先進制程巨頭“聯(lián)姻”，一場怎樣的陽謀？
  • 2nm戰(zhàn)場，好戲來了
    本周，2nm在各大網(wǎng)站強勢刷屏。臺積電此前表示，2nm芯片將于4月1日起接受訂單預(yù)訂。隨著時間逐漸來到4月，它終于猶抱琵琶半遮面，緩緩露出真容。臺積電、Intel、Rapidus等芯片巨頭均在本周再度更新了2nm芯片的量產(chǎn)進展。
    2nm戰(zhàn)場，好戲來了
  • 2nm工藝大考倒計時
    臺積電近期表示，2nm工藝技術(shù)進展良好，將如期在今年下半年量產(chǎn)，產(chǎn)能在今年年底前有望達到5萬片，甚至有機會邁上8萬片臺階。
    2nm工藝大考倒計時
  • 2025年2納米晶圓廠全力加速建設(shè)
    ChatGPT之后，DeepSeek橫空出世，助力AI大模型持續(xù)升溫。AI驅(qū)動之下，先進制程芯片需求持續(xù)高漲。當(dāng)前3納米芯片已經(jīng)實現(xiàn)量產(chǎn)，為滿足未來市場對更先進制程芯片的需求，多家廠商積極布局2納米晶圓廠，且目標2025年量產(chǎn)/試產(chǎn)。隨著目標時間臨近，2納米晶圓廠建設(shè)進入全力加速階段。
    2025年2納米晶圓廠全力加速建設(shè)
  • 2nm，要來了
    在半導(dǎo)體制造中，2nm工藝是繼3nm工藝節(jié)點之后的下一個MOSFET（金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管）芯片微縮技術(shù)?！?nm”或“20?！保ㄓ⑻貭柺褂玫男g(shù)語）與晶體管的任何實際物理特征（例如柵極長度、金屬間距或柵極間距）無關(guān)。根據(jù)電氣和電子工程師協(xié)會(IEEE)發(fā)布的2021 年更新的《國際設(shè)備和系統(tǒng)路線圖》中的預(yù)測，“2.1 nm節(jié)點范圍標簽”預(yù)計接觸柵極間距為 45 nm，最緊密金屬間距為 20 nm。
    2nm，要來了
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