EUV光刻_EUV光刻是什么意思

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EUV光刻，新的對(duì)手
最近，美國勞倫斯利弗莫爾國家實(shí)驗(yàn)室（LLNL）宣布開發(fā)出了一種名稱為大孔徑銩（BAT）激光器，這種激光器比現(xiàn)在行業(yè)內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)CO2激光器將EUV光源提高約10倍。

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫

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01/15 09:25

EUV光刻
日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本將大幅降低！
8月7日消息，近日日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)（OIST）的Tsumoru Shintake教授帶領(lǐng)的研究團(tuán)隊(duì)提出了一項(xiàng)全新、大幅簡(jiǎn)化的面向極紫外（EUV）光刻機(jī)的雙反射鏡系統(tǒng)。相比傳統(tǒng)的至少需要六面反射鏡的配置，新的光學(xué)投影系統(tǒng)僅使用了兩面反射鏡，在確保系統(tǒng)維持較高的光學(xué)性能的同時(shí)，能讓EUV光線以超過初始值10%的功率到達(dá)晶圓，相比傳統(tǒng)系統(tǒng)中僅1%的功率來說，提了高到了原來的10倍，可說是一大突破。

芯智訊

1732

2024/08/12

EUV光刻機(jī) EUV光刻
從大型EUV光刻廠的熱炒聊起
最近清華的SSMB-EUV光源在網(wǎng)上傳得沸沸揚(yáng)揚(yáng)，大概意思是中國可以通過這個(gè)加速器來產(chǎn)生不同頻率的EUV光源，同時(shí)可以給各種芯片制程來使用，徹底解決光刻機(jī)的技術(shù)壁壘。公眾對(duì)這個(gè)話題感興趣，原因還是希望能夠早日突破美國技術(shù)封鎖，對(duì)清華的研究充滿信心，希望我國的芯片產(chǎn)業(yè)能夠盡快趕上國際領(lǐng)先水平。至于這個(gè)SSMB技術(shù)的細(xì)節(jié)，我相信絕大部分公眾并無法判斷，即使在專業(yè)的半導(dǎo)體群中，大部分人也說不清楚。

土人觀芯

2262

2023/09/20

光刻機(jī) EUV光刻
提高數(shù)值孔徑是EUV光刻技術(shù)目標(biāo)之一
光刻是大規(guī)模集成電路芯片制備的核心工藝環(huán)節(jié)，其中，EUV光刻機(jī)是服務(wù)于7nm 以下制程芯片的設(shè)備。

中國電子報(bào)

1587

2022/11/14

EUV光刻
ASML的未來：光明與風(fēng)險(xiǎn)并存
很少有公司能像ASML那樣，從全球經(jīng)濟(jì)中不斷增加的半導(dǎo)體需求中獲益。

Astroys

641

2021/12/24

ASML EUV光刻

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