• EUV光刻，新的對手

  最近，美國勞倫斯利弗莫爾國家實驗室（LLNL）宣布開發(fā)出了一種名稱為大孔徑銩 （BAT） 激光器，這種激光器比現(xiàn)在行業(yè)內(nèi)的標準CO2激光器將EUV光源提高約10倍。

  半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫

  2356

  01/15 09:25

  EUV光刻

  
• 日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本將大幅降低！

  8月7日消息，近日日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)（OIST）的Tsumoru Shintake教授帶領(lǐng)的研究團隊提出了一項全新、大幅簡化的面向極紫外（EUV）光刻機的雙反射鏡系統(tǒng)。相比傳統(tǒng)的至少需要六面反射鏡的配置，新的光學(xué)投影系統(tǒng)僅使用了兩面反射鏡，在確保系統(tǒng)維持較高的光學(xué)性能的同時，能讓EUV光線以超過初始值10%的功率到達晶圓，相比傳統(tǒng)系統(tǒng)中僅1%的功率來說，提了高到了原來的10倍，可說是一大突破。

  芯智訊

  1731

  2024/08/12

  EUV光刻機 EUV光刻

  
• 從大型EUV光刻廠的熱炒聊起

  最近清華的SSMB-EUV光源在網(wǎng)上傳得沸沸揚揚，大概意思是中國可以通過這個加速器來產(chǎn)生不同頻率的EUV光源，同時可以給各種芯片制程來使用，徹底解決光刻機的技術(shù)壁壘。公眾對這個話題感興趣，原因還是希望能夠早日突破美國技術(shù)封鎖，對清華的研究充滿信心，希望我國的芯片產(chǎn)業(yè)能夠盡快趕上國際領(lǐng)先水平。至于這個SSMB技術(shù)的細節(jié)，我相信絕大部分公眾并無法判斷，即使在專業(yè)的半導(dǎo)體群中，大部分人也說不清楚。

  土人觀芯

  2261

  2023/09/20

  光刻機 EUV光刻

  
• 提高數(shù)值孔徑是EUV光刻技術(shù)目標之一

  光刻是大規(guī)模集成電路芯片制備的核心工藝環(huán)節(jié)，其中，EUV光刻機是服務(wù)于7nm 以下制程芯片的設(shè)備。

  中國電子報

  1586

  2022/11/14

  EUV光刻
• ASML的未來：光明與風險并存

  很少有公司能像ASML那樣，從全球經(jīng)濟中不斷增加的半導(dǎo)體需求中獲益。

  Astroys

  641

  2021/12/24

  ASML EUV光刻
• 半導(dǎo)體｜日本廠商在EUV半導(dǎo)體設(shè)備中市占逐步提升

  CINNO Research產(chǎn)業(yè)資訊，極紫外光刻（EUV）在半導(dǎo)體線路的微縮化進程中極為重要，在“極紫外光刻曝光”相關(guān)工序中，日本設(shè)備廠家的存在感在逐步提升。荷蘭ASML獨霸關(guān)鍵曝光設(shè)備市場，日本企業(yè)則在檢測、感光材料涂布、成像等相關(guān)設(shè)備方面占有較高的市場份額。然而，一臺尖端的EUV相關(guān)設(shè)備價格高昂，對半導(dǎo)體廠家來說是較重的投資負擔。長期

  CINNO Research

  95

  2021/01/27

  5G 半導(dǎo)體設(shè)備
• DNP成功研發(fā)5nm EUV光掩膜工藝，為半導(dǎo)體不斷細微化提供可靠支撐

  大日本印刷株式會社利用多電子光束繪制設(shè)備，研發(fā)了光掩膜的生產(chǎn)工藝，不僅可用于當下最先進的 EUV 光刻，還可用于 5 納米工藝。

  CINNO Research

  218

  2020/08/31

  5nm 硅晶圓
• 芯片破壁者（六.下）：摩爾定律的新世紀變局與無限火力

  摩爾定律的第一次續(xù)命，成功拉開了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的激烈競爭。

  腦極體

  125

  2020/07/22

  英特爾 晶體管
• 半導(dǎo)體設(shè)備廠商Lam Research｜迎新財務(wù)模式，最大銷售額達175億美元

  不僅專注于已銷售設(shè)備的服務(wù)業(yè)務(wù)，還力求擴大蝕刻和成膜市場、通過加入新市場在 SAM(Served Available Market)上獲得發(fā)展。

  CINNO Research

  96

  2020/03/18

  半導(dǎo)體設(shè)備 EUV光刻
• EUV、光刻膠、計算光刻等先進光刻技術(shù)的桎梏和突破

  20世紀以來，在光學(xué)光刻技術(shù)努力突破分辨率“極限”的同時，國內(nèi)外相關(guān)企業(yè)、機構(gòu)都正在積極研究，包括EUV光刻技術(shù)，電子束光刻技術(shù)，計算光刻等內(nèi)容方向。

  李晨光

  91

  2018/11/08

  光刻機 光刻膠

正在努力加載...