• EUV新局，巨頭們的攻守之道

  如今，人工智能芯片的需求正以指數(shù)級速度瘋漲，可高昂的成本和復(fù)雜的工藝，讓這項技術(shù)淪為少數(shù)公司的 “專屬”。不過，轉(zhuǎn)機或許很快就會出現(xiàn)。為了給五花八門的人工智能應(yīng)用 “撐腰”，對先進制程芯片的渴求一路狂飆，這給整個行業(yè)的供應(yīng)能力帶來了巨大壓力。不管是支撐大型語言模型的超大規(guī)模數(shù)據(jù)中心，還是智能手機、物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備、自主系統(tǒng)里的邊緣人工智能，前沿半導(dǎo)體在各個應(yīng)用場景下的需求都在快速增長。但芯片制造嚴重依賴極紫外光刻（EUV）技術(shù)，該技術(shù)卻成為擴大生產(chǎn)規(guī)模的關(guān)鍵阻礙。

  半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫

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  03/24 13:45

  EUV EUV技術(shù)

  
• ASML：EUV技術(shù)領(lǐng)域不會面臨中國公司的競爭！

  6月6日消息，ASML首席財務(wù)官Roger Dassen近日在 Jefferies證券主持的投資者電話會議上表示，ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結(jié)束，預(yù)計在第二季度或第三季度開始獲得“大量” 2nm芯片制造相關(guān)設(shè)備訂單。同時，Jefferies報告稱臺積電已經(jīng)訂購了High NA EUV光刻機。

  芯智訊

  1559

  2024/06/07

  ASML EUV

  
• 高NA EUV迎來制程的岔路口

  半導(dǎo)體行業(yè)的領(lǐng)軍企業(yè)正努力爭取進入所謂的“埃時代”（Angstrom era）。在所謂的3nm工藝節(jié)點附近的節(jié)點上，以“埃”而不是以“納米”來命名技術(shù)節(jié)點成為了一種時尚，因此不是1.5nm，而是15埃。正是在這一點上，對晶圓上更精細圖案的要求超出了當今EUV光刻系統(tǒng)和程序的能力。

  Astroys

  2007

  2024/04/23

  光刻膠 EUV

  
• Q1營收下滑21%！ASML：可繼續(xù)為在華設(shè)備提供售后服務(wù)！

  2024年4月17日，光刻機大廠ASML發(fā)布了2024年第一季度財報。2024年第一季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額52.90億歐元，同比下降21%，處于預(yù)測營收區(qū)間的中間值；毛利率為51.0%，高于此前預(yù)計的48%至49%；凈利潤達12.24億歐元，同比下降38%。新增訂單金額為 36 億歐元，其中6.56 億歐元訂單來自EUV。

  芯智訊

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  2024/04/19

  ASML 光刻機

  
• 英特爾宣布Intel 4已大規(guī)模量產(chǎn)，“四年五個制程節(jié)點”計劃又進一步

  近日，英特爾宣布已開始采用極紫外光刻（EUV）技術(shù)大規(guī)模量產(chǎn)（HVM）Intel 4制程節(jié)點。Intel 4大規(guī)模量產(chǎn)的如期實現(xiàn)，再次證明了英特爾正以強大的執(zhí)行力推進“四年五個制程節(jié)點”計劃，并將其應(yīng)用于新一代的領(lǐng)先產(chǎn)品，滿足AI推動下“芯經(jīng)濟”指數(shù)級增長的算力需求。

  與非網(wǎng)編輯

  1910

  2023/10/12

  EUV EUV技術(shù)

  
• 分析丨DRAM技術(shù)受阻，如何走出瓶頸？

  從DRAM誕生至今，行業(yè)已經(jīng)擁有3家1X節(jié)點的制造商，其存儲容量超過4Gb，他們?nèi)栽谥圃炀哂邢嗤渲玫拇鎯卧?/div>

  AI芯天下

  360

  2021/10/24

  dram EUV技術(shù)
• 半導(dǎo)體｜美國美光提速EUV DRAM開發(fā)速度，次世代EUV DRAM競爭加劇

  CINNO Research產(chǎn)業(yè)資訊，美國美光科技開始提速EUV DRAM。加入到三星電子、SK海力士等全球第一、第二EUV廠商選擇的EUV陣營后，后續(xù)EUV競爭或?qū)⒏鼮榧ち摇?/div>

  CINNO Research

  73

  2020/12/24

  三星 dram
• 揮別國產(chǎn)存儲上半年，EUV導(dǎo)入、DDR更迭下半場如何走？

  回顧存儲產(chǎn)業(yè)上半年，一些事件值得回味，一些變動指向未來。

  全球半導(dǎo)體觀察

  85

  2020/10/13

  dram 存儲產(chǎn)業(yè)
• EUV光刻機這么耗電？臺積電都hold不住

  全中國臺灣用電過去 5 年的增加量，約三分之一由臺積電貢獻。 接下來，隨著導(dǎo)入「救世主」技術(shù)──EUV 微影技術(shù)，用電還會暴增。 臺積電評估，5 nm制程用電會是目前主流制程的 1.48 倍。

  與非網(wǎng)記者

  17

  2017/08/14

  臺積電 EUV
• 英特爾干著急：IBM攜三星推7納米芯片

  小編語：工藝發(fā)展進入20nm以后，玩家越來越少，因為研究新一代工藝的開銷越來越大，難度也越來越高，日前英特爾剛剛爆出10nm工藝延期，現(xiàn)在對手又爆出好消息，三星和IBM共同研發(fā)的7nm工藝獲得重大進展，多年來英特爾在工藝上領(lǐng)先的優(yōu)勢真的會在10nm左右終結(jié)嗎？

  與非網(wǎng)記者

  1

  2015/07/09

  英特爾 IBM

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