2月15日，ASML發(fā)布2022年度財報。報告顯示，ASML在2022年銷售額達到212億歐元，與2021年相比增長了13.8%，毛利率為49.7%。

ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink在年報中介紹，盡管2022年經(jīng)歷了很多動蕩，但是ASML依舊取得了不錯的成績。預計到2025—2026 年，ASML將大幅提升產(chǎn)能，達到年產(chǎn)90臺EUV（極紫外光）光刻機和600臺DUV（深紫外光）光刻機。同時，在2027年到2028年，將增產(chǎn)20個高數(shù)值孔徑EUV光刻機。

年報中對ASML最新光刻設備做了詳細介紹。年報顯示，最新一代的EUV 0.33 NA光刻系統(tǒng)TWINSCAN NXE：3600D，與前代產(chǎn)品TWINSCAN NXE：3400C相比，生產(chǎn)率提高了15%～20%，覆蓋率提高了約30%，同時還提高了系統(tǒng)可用性。EUV 0.55 NA是下一代EUV光刻系統(tǒng)，相比較于EUV 0.33 NA而言有更高的分辨率。該系統(tǒng)預計將于2025年首次部署，將在2025—2026年開始支持大批量生產(chǎn)。EUV 0.55 NA光刻系統(tǒng)TWINSCAN EXE：5000已經(jīng)在2022年收到了采購訂單，預計該系統(tǒng)未來將達到每小時220片晶圓的生產(chǎn)率。

年報顯示，2022年第三季度ASML推出了最新浸入式系統(tǒng)TWINSCAN NXT：2100i，該系統(tǒng)除了對透鏡計量、光罩調(diào)節(jié)和晶圓表的內(nèi)在改進以及對整體交叉匹配改進外，NXT：2100i還具有對準優(yōu)化器12顏色包等創(chuàng)新。該系統(tǒng)能提供每小時295片晶圓的生產(chǎn)率，能夠為3nm 及以下節(jié)點上的浸沒層的提供最具成本效益的解決方案。在干式系統(tǒng)中，最新TWINSCAN NXT：1470雙級ArF系統(tǒng)，可以打印分辨率低至220nm的圖案，用于200mm和300mm晶圓生產(chǎn)，實現(xiàn)每小時330個晶圓的生產(chǎn)率。