• 為什么光刻區(qū)又叫黃光區(qū)？有什么含義？

  走進半導體工廠的無塵間光刻區(qū)，泛黃的燈光總會給人留下深刻印象。這抹看似普通的黃色光芒，實則是半導體制造中集光化學原理、材料特性與人體工程學于一體的精密設計。那些在新建實驗室中為節(jié)省成本而隨意安裝黃燈管的做法，恰恰忽視了這一照明選擇背后的多重技術約束。

  國芯制造

  537

  05/23 10:49

  半導體制造 光刻膠

  
• 晶圓的平邊和應用

  晶圓的平邊分為缺口和平邊，根據(jù)尺寸不同而不同。對于大尺寸的晶圓，一般是柱面磨削出一道凹槽作為定位槽(Notch)，對于小尺寸的一般磨削出平邊作為定位邊(Flat)。

  芯片工藝技術

  473

  05/22 09:25

  晶圓

  
• T-SAM與C-SAM如何“看穿”封裝缺陷的？

  學員問：超聲波有T-SAM與C-SAM，這兩種模式有什么區(qū)別？SAM，Scanning acoustic microscope，超聲波掃描顯微鏡。SAM 是一種非破壞性檢測技術，在無需對樣品開蓋的前提下，就能“透視”封裝內(nèi)部結構。避免了傳統(tǒng)破壞性方法可能引入的新?lián)p傷。

  TOM聊芯片智造

  836

  05/19 10:55

  芯片封裝 超聲波

  
• 一文詳解PCIe熱插拔原理

  PCIe熱插拔（Hot Plug）是指允許在系統(tǒng)運行時不關閉電源即可安全插入或拔出PCIe設備，其廣泛應用于服務器和數(shù)據(jù)中心等場景。PCIe熱插拔是提升系統(tǒng)RAS能力的重要手段。

  芯片架構筆記

  1291

  05/19 10:35

  PCIE 熱插拔

  
• 晶圓盒為什么僅裝載 25 片晶圓？

  為何一盒晶圓通常是 25 片？廠商解釋稱：通過對工藝參數(shù)開展大量實驗研究發(fā)現(xiàn)，當 FOUP（晶圓傳送盒）容納 25 片晶圓時，工作效率能達到最高值。因此，半導體行業(yè)標準 SEMI E1.9——《用于運輸和存儲 300 毫米晶圓的盒的機械規(guī)范》也對此作出了相應規(guī)定。

  國芯制造

  608

  05/19 10:10

  晶圓

  
• 電子設備振動環(huán)境試驗(13)?—— 振動試驗的邊界和界面

  前文介紹了電子設備振動環(huán)境試驗概念，以及幾種主要試驗類型、試驗條件的修正、試驗過程中一些注意事項和試驗方法等。本文將對振動試驗的邊界和界面等問題開展相關探討。

  數(shù)聯(lián)科技工作室

  553

  05/19 09:20

  電子設備 振動檢測

  
• X-Ray，XRD，XRF，XPS有什么區(qū)別？

  學員問：晶圓廠中，X射線可以應用在X-Ray，XRD，XRF，XPS，這四種設備各有什么作用和區(qū)別嗎？X-Ray、XRD、XRF、XPS雖然它們都用 X 光源，但原理、檢測對象和應用目的截然不同。

  TOM聊芯片智造

  481

  05/16 14:35

  X射線 XPS

  
• LVS和DRC檢查有什么區(qū)別？芯片設計為什么需要這兩道 “關卡”？

  在芯片設計的世界里，LVS（Layout vs Schematic，版圖與原理圖一致性檢查）和 DRC（Design Rule Check，設計規(guī)則檢查）是確保芯片功能正確和可制造性的兩大核心驗證步驟。這兩者如同建筑工程中的 “圖紙核對” 與 “施工規(guī)范檢查”，雖目標不同，但共同守護著芯片從設計到量產(chǎn)的生命線。本文將用通俗易懂的語言，結合實際案例，帶您深入理解它們的區(qū)別與協(xié)作。

  國芯制造

  1600

  05/16 14:21

  芯片設計 原理圖

  
• 什么是FIB(Focused Ion Beam)? 從FIB原理、用途、優(yōu)勢和挑戰(zhàn)介紹

  在微觀世界的精密加工領域，聚焦離子束（Focused Ion Beam，F(xiàn)IB）技術宛如一位神奇的 “納米雕刻師”，憑借獨特的技術手段，為材料加工、分析和成像開辟了全新的路徑。這項技術通過對離子束的精妙操控，實現(xiàn)納米級別的精準操作，在多個領域展現(xiàn)出巨大的應用潛力。

  國芯制造

  528

  05/16 11:21

  FIB技術

  
• 芯片失效分析中 Hot Spot 技術的深度解析與前沿探索

  在半導體技術持續(xù)向納米級乃至埃米級邁進的今天，芯片集成度不斷攀升，內(nèi)部結構愈發(fā)復雜。在芯片的全生命周期中，失效問題難以避免，而 Hot Spot 技術已成為產(chǎn)品工程師破解芯片失效謎團的關鍵利器。該技術聚焦于芯片內(nèi)部因各種缺陷引發(fā)的過熱或異常電流密度區(qū)域，精準定位潛在故障點，為后續(xù)深入分析奠定堅實基礎。

  國芯制造

  1344

  05/15 10:55

  半導體技術 Hot Spot技術

  
• 晶圓廠為什么常用IPA而不用酒精？

  學員問：在12吋/8吋 fab中，是嚴禁使用乙醇酒精做主清洗劑的，為什么？IPA在晶圓廠中的應用？IPA是異丙醇，主要用于晶圓清洗，刻蝕，設備裝機，PM等。幾乎出現(xiàn)在晶圓廠各個區(qū)域中。

  TOM聊芯片智造

  523

  05/15 08:43

  晶圓廠

  
• 晶圓切割成單個Chip有哪些方式，一次講明白！

  在半導體產(chǎn)業(yè)精密復雜的制造體系中，晶圓切割作為不可或缺的關鍵環(huán)節(jié)，承擔著將大尺寸單晶硅圓片轉化為適配芯片生產(chǎn)的小型晶圓片的重要使命。作為半導體制造流程的末端工序，其不僅要實現(xiàn)精準的尺寸分割，更需確保切割后的晶圓表面具備極高的平整度與光潔度標準，從而為后續(xù)芯片制造奠定堅實基礎。晶圓切割

  國芯制造

  997

  05/13 14:20

  晶圓制造

  
• 先進封裝技術解讀 | 三星

  集成電路產(chǎn)業(yè)通常被分為芯片設計、芯片制造、封裝測試三大領域。其中，芯片制造是集成電路產(chǎn)業(yè)門檻最高的行業(yè)，目前在高端芯片的制造上也只剩下臺積電（TSMC）、三星（SAMSUNG）和英特爾（Intel）三家了。

  Suny Li（李揚）

  1018

  05/13 10:30

  先進封裝

  
• 優(yōu)化eFuse跳變曲線以提高性能

  作者：Bart De Cock，安森美技術營銷 隨著車輛電子設備日益復雜，為系統(tǒng)中的所有元件提供正確且充分的保護對于安全性和可靠性至關重要。整車廠商逐漸摒棄傳統(tǒng)的刀片式保險絲，轉而青睞電子保險絲 (eFuse) 帶來的優(yōu)勢。 本文將介紹如何以類似于傳統(tǒng)保險絲的方式操作電子保險絲，并對未來通過編程使電子保險絲模擬傳統(tǒng)保險絲的前景進行展望。 這些可編程器件旨在保護電源線免受過電流、過壓和短路情況的損害

  與非網(wǎng)編輯

  442

  05/13 09:03

  安森美 電子設備

  
• 半導體芯片中，什么是Seal ring？有什么作用？

  在集成電路制造領域，Seal ring 雖不直接參與電路信號處理，卻是芯片物理防護體系的核心構件。這個看似簡單的環(huán)形結構，從版圖設計到工藝實現(xiàn)都承載著多重使命，是保障芯片可靠性的關鍵屏障。本文將從定義、結構、作用及缺失風險四個維度，全面解析這一芯片 "守護者" 的技術內(nèi)涵。

  國芯制造

  1531

  05/12 16:27

  layout 半導體芯片

  
• 先進封裝的種類細分圖

  學員問：先進封裝是如何分類的呢？如上圖，是封裝的種類細分圖，我們一個一個術語來介紹。

  TOM聊芯片智造

  450

  05/12 12:40

  先進封裝
• 芯片在流片前，什么是IP merge？如何理解？

  在芯片行業(yè)里，IP 其實就是 IP 核，它就像是芯片里一個個功能齊全的 “小零件”。這些 “小零件” 是已經(jīng)設計成熟的電路模塊，比如負責計算的、處理數(shù)據(jù)的。它們可以被用在其他芯片設計里，就像搭樂高積木，現(xiàn)成的積木塊能直接拼到新作品里，這樣就能減少很多設計工作，縮短設計時間，還能提高芯片設計成功的概率。因為

  國芯制造

  1260

  05/12 09:20

  芯片行業(yè) 芯片IP

  
• 深度解析 eFuse 與 Anti-Fuse：芯片世界的 “保險絲衛(wèi)士”---五千字的全方位介紹

  在芯片的微觀世界里，有兩位默默守護著電路安全與數(shù)據(jù)穩(wěn)定的 “衛(wèi)士”——eFuse 和 Anti-Fuse。它們雖然名字中都帶有 “fuse”（保險絲），但在功能、特性、應用等方面既有聯(lián)系又存在諸多差異。接下來，讓我們一同深入探究它們的奧秘。

  國芯制造

  1013

  05/09 13:54

  eFuse

  
• 干法刻蝕技術深度解析：原理、特性與應用

  干法刻蝕是半導體制造等精密加工領域的核心技術，其原理是將硅片表面暴露于氣態(tài)等離子體中，等離子體通過光刻膠窗口，與硅片發(fā)生物理、化學或二者兼有的反應，從而去除暴露的表面材料。這種技術以其獨特的優(yōu)勢在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中占據(jù)重要地位。

  國芯制造

  1052

  05/09 11:50

  干法刻蝕

  
• 什么是晶邊刻蝕（Bevel Etch）工藝？

  在介紹Bevel Etch工藝前，先簡單介紹薄膜工藝：化學氣相沉積（Chemical vapor deposition，CVD）是通過氣體混合的化學反 應在硅片表面沉積一層固體膜的工藝。硅片表面及其鄰近的區(qū)域被加熱起來向反 應系統(tǒng)提供附加能量。當化合物在反應腔中混合并進行反應時，就會發(fā)生化學氣相沉積過程。原子或分子會沉積在硅片表面成膜，下圖展示了化學氣相成膜過程。

  國芯制造

  835

  05/09 11:30

  刻蝕工藝

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