什么是晶邊刻蝕(Bevel Etch)工藝?
在介紹Bevel Etch工藝前,先簡單介紹薄膜工藝:化學(xué)氣相沉積(Chemical vapor deposition,CVD)是通過氣體混合的化學(xué)反 應(yīng)在硅片表面沉積一層固體膜的工藝。硅片表面及其鄰近的區(qū)域被加熱起來向反 應(yīng)系統(tǒng)提供附加能量。當(dāng)化合物在反應(yīng)腔中混合并進(jìn)行反應(yīng)時,就會發(fā)生化學(xué)氣相沉積過程。原子或分子會沉積在硅片表面成膜,下圖展示了化學(xué)氣相成膜過程。