二次電子是指在物體被高能粒子或光子轟擊后，被轟出并逸出該物體表面的電子。它是一種重要的電子顯微鏡成像技術(shù)中所使用的電荷感應(yīng)探針。

1.二次電子名詞解釋

二次電子是指由某種形式的激勵(lì)使得一個(gè)物體表面上原本束縛在那里的電子被釋放出來(lái)，并從表面彈射走，這些被釋放出去的電子就叫做二次電子。

二次電子是電子顯微鏡成像技術(shù)的關(guān)鍵組成部分之一，具有非常重要的應(yīng)用價(jià)值。通過(guò)控制粒子束的能量和入射角度等參數(shù)，可以獲得對(duì)樣品表面高分辨率的成像效果。

2.二次電子的產(chǎn)生與危害

二次電子的產(chǎn)生是通過(guò)高能粒子或光子與物體表面的原子相互作用引發(fā)的。在電子顯微鏡成像技術(shù)中，通常使用高能電子轟擊樣品表面來(lái)產(chǎn)生二次電子。

需要注意的是，高能電子轟擊可能會(huì)使得樣品表面受到損傷甚至被氧化等，因此需要進(jìn)行合適的實(shí)驗(yàn)條件選擇，并對(duì)樣品進(jìn)行充分的保護(hù)以避免危害和影響成像效果。

3.二次電子成像原理及應(yīng)用

二次電子成像技術(shù)是通過(guò)測(cè)量由二次電子所帶來(lái)的電荷感應(yīng)信號(hào)來(lái)進(jìn)行成像。當(dāng)高能電子轟擊樣品表面時(shí)，會(huì)產(chǎn)生一系列次級(jí)電子，包括二次電子和背散射電子等。

二次電子具有強(qiáng)烈的表面靈敏性和高分辨率特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于各種表面形貌和材料性質(zhì)的研究。例如，在材料科學(xué)、納米電子學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，二次電子成像技術(shù)都具有極其重要的應(yīng)用價(jià)值。