• 1um以下的光刻深度,凹槽深度和寬度測量

  一、白光干涉儀測量原理 白光干涉儀利用白光干涉原理，通過測量反射光與參考光之間的光程差來精確獲取待測表面的高度信息。其測量精度可達(dá)到納米級別，非常適合用于測量1um以下的光刻深度、凹槽深度和寬度。 二、測量步驟與注意事項(xiàng) 樣品準(zhǔn)備： 確保待測樣品表面干凈無塵，無油污或其他污染物，因?yàn)檫@些會影響干涉圖樣的清晰度和測量精度。 對于光刻和凹槽結(jié)構(gòu)，需要特別注意保持其完整性，避免在測量過程中造成損傷。 儀

  萬智光學(xué)

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  2024/12/27

  無源光器件

  

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