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  CVD?技術(shù)是一種在真空環(huán)境中通過(guò)襯底表面化學(xué)反應(yīng)來(lái)進(jìn)行薄膜生長(zhǎng)的過(guò)程，較短的工藝時(shí)間以及所制備薄膜的高致密性，使?CVD?技術(shù)被越來(lái)越多地應(yīng)用于薄膜封裝工藝中無(wú)機(jī)阻擋層的制備。

  半導(dǎo)體全解

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  05/07 11:40

  ALD 薄膜技術(shù)

  
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  03/17 11:20

  薄膜技術(shù)

  
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  等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）是一種常用的薄膜制備技術(shù)，通過(guò)在等離子體條件下進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，在固體襯底表面形成均勻、致密、具有良好性能的薄膜。等離子體在PECVD過(guò)程中起著關(guān)鍵作用，通過(guò)激活氣體分子和表面反應(yīng)，影響薄膜的生長(zhǎng)速率、結(jié)構(gòu)和性質(zhì)。

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  2024/08/16

  PECVD 薄膜技術(shù)

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