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    18小時前
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    摘要:本文針對濕法腐蝕工藝后晶圓總厚度偏差(TTV)的管控問題,探討從工藝參數優(yōu)化、設備改進及檢測反饋機制完善等方面入手,提出一系列優(yōu)化方法,以有效降低濕法腐蝕后晶圓 TTV,提升晶圓制造質量。 關鍵詞:濕法腐蝕;晶圓;TTV 管控;工藝優(yōu)化 一、引言 濕法腐蝕是晶圓制造中的關鍵工藝,其過程中腐蝕液對晶圓的不均勻作用,易導致晶圓出現厚度偏差,影響 TTV 指標。TTV 過高會降低芯片性能與良品率,
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