• 半導(dǎo)體微縮化的技術(shù)突圍與光刻革命

  隨著半導(dǎo)體的發(fā)展，我們的生活在過去幾十年中發(fā)生了巨大變化。50年前，研究人員家中的電器只有收音機和電視機，通信設(shè)備也只有電話。即使在辦公室，打字機和計算機也并不普遍，只有一些大型企業(yè)能夠使用大型計算機。而如今，個人計算機幾乎已經(jīng)成為普通家庭的必備之物，性能遠超當(dāng)年的大型計算機，不僅具備計算能力，還能進行通信，另外，只有手掌大小的智能手機也早已在社會生活中普及開來。這一切背后的支撐技術(shù)之一就是半導(dǎo)體。

  IT有得聊

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  05/12 12:50

  半導(dǎo)體 光刻技術(shù)

  
• 軟烘，PEB，后烘在光刻工序中的作用？

  學(xué)員問：光刻工序中的烘烤有幾次？各有什么作用？光刻工序中的烘烤有幾次？根據(jù)用途不一樣，烘烤的次數(shù)也不一樣。一般為兩到三次。

  TOM聊芯片智造

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  05/07 08:47

  光刻技術(shù)
• 光刻工藝中，什么是Binary mask和Phase Shift Mask？一次講明白！

  在半導(dǎo)體光刻技術(shù)中，光掩模（Photo mask）是芯片制造的核心工具之一，其作用類似于傳統(tǒng)照相的底片，通過控制光線透射或阻擋，將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片制程不斷微縮至納米級，掩模技術(shù)也在持續(xù)演進。其中，

  國芯制造

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  05/06 16:09

  光刻技術(shù) 光掩膜版

  
• 光刻工藝：光刻膠、曝光方式、光刻主要步驟

  光刻工藝貫穿整個芯片制造流程的多次重復(fù)轉(zhuǎn)印環(huán)節(jié)，對于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導(dǎo)體制造工藝演進，對光刻分辨率、套準精度和可靠性的要求持續(xù)攀升，光刻技術(shù)也將不斷演化，支持更為先進的制程與更復(fù)雜的器件設(shè)計。

  老虎說芯

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  03/24 14:00

  光刻膠 光刻技術(shù)

  
• g線與i線光刻工藝的技術(shù)節(jié)點、工藝特點以及典型應(yīng)用

  在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)整體邁向深亞微米甚至納米制程的今天，g線（436 nm）與i線（365 nm）光刻工藝相較于后續(xù)的 KrF（248 nm）、ArF（193 nm）或 EUV（13.5 nm）而言，已經(jīng)相對成熟和“傳統(tǒng)”。然而，g/i線工藝仍然在某些特定領(lǐng)域和應(yīng)用場景中發(fā)揮著重要作用。

  老虎說芯

  2090

  03/21 10:55

  光刻技術(shù)

  
• 光刻工藝中g(shù)線、i線、DUV、EUV是什么意思？

  不同波長的光源各自對應(yīng)不同的技術(shù)節(jié)點和制造需求。從早期的 g線、i線到目前主流的 KrF、ArF 再到最尖端的 EUV，每一次升級都展現(xiàn)了更高分辨率和更先進的工藝水平。隨著對器件尺寸不斷逼近物理極限，EUV及其后續(xù)升級版本將持續(xù)發(fā)展。

  老虎說芯

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  03/20 12:20

  EUV 光刻技術(shù)

  
• ASML收購Mapper的背后故事：中美俄荷四方暗斗

  近日，一名具有俄羅斯背景的ASML前員工因涉嫌竊取ASML和Mapper Lithography 的微芯片手冊等文件而被荷蘭政府拘留，引發(fā)各方關(guān)注。

  芯智訊

  1996

  2024/12/15

  ASML 光刻技術(shù)

  
• 納米壓印取代光刻，我國半導(dǎo)體制造不用再被卡脖子？

  第十四屆中國國際納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)博覽會（簡稱“納博會”）在萬眾矚目中圓滿落下了帷幕。這場全球納米科技領(lǐng)域盛會，以1場主報告、13場分論壇、1場創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)大賽，1場新產(chǎn)品發(fā)布會為主，匯聚了全球納米科技領(lǐng)域的18位院士，450多位高校研究院所、上市公司、知名企業(yè)機構(gòu)的頂級專家代表出席，分享專業(yè)報告476場，較往屆增加132場，同比增長約33%，吸引9663位嘉賓參會聽會。

  芯師爺

  3873

  2024/10/31

  半導(dǎo)體制造 光刻技術(shù)

  
• 計算光刻進入3.0時代，東方晶源ILT引領(lǐng)技術(shù)變革

  在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，計算光刻技術(shù)是推動芯片制程不斷突破的關(guān)鍵因素之一。隨著集成電路的尺寸不斷縮小，計算光刻技術(shù)應(yīng)運而生，成為提升光刻精度和芯片性能的重要手段。在國內(nèi)尖端光刻設(shè)備受限的背景下，其重要性更是不言而喻。 在這一技術(shù)革新的浪潮中，東方晶源以其前瞻性的布局和強大的研發(fā)能力，成為推動計算光刻技術(shù)發(fā)展的先鋒，以及國內(nèi)半導(dǎo)體制造行業(yè)實現(xiàn)技術(shù)飛躍的關(guān)鍵力量。 從基于規(guī)則、模型到基于ILT，計算光刻進入

  與非網(wǎng)編輯

  1912

  2024/10/23

  芯片 光刻技術(shù)

  
• 在嘉興，600多位專家談光刻未來

  光刻技術(shù)是半導(dǎo)體制造的核心工藝，它決定了芯片的集成度和性能。在芯片制造業(yè)的浩瀚宇宙中，光刻技術(shù)無疑是最為璀璨的星辰之一，引領(lǐng)著整個行業(yè)的創(chuàng)新與前沿發(fā)展。

  半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫

  2452

  2024/10/17

  半導(dǎo)體制造 光刻技術(shù)

  
• 聊聊光刻工序常見術(shù)語（2）

  上次，我們總結(jié)了光刻工序部分的術(shù)語，見文章：《光刻工序常見術(shù)語中英文對照（1）》這次，我們把剩下的又總結(jié)了一些，供大家參閱。1，Developer Mist：顯影液回濺產(chǎn)生的水霧，是顯影過程引入的一種缺陷。2，Bubble：氣泡，比如光刻膠中含有氣泡。

  TOM聊芯片智造

  1579

  2024/09/22

  光刻技術(shù)

  
• 光刻工序常見術(shù)語中英文對照（1）

  在半導(dǎo)體制造中會使用很多英文詞匯，而英文詞匯在翻譯為漢語的過程中，意思往往會出現(xiàn)偏差，后面的幾期，Tom會針對幾大工序中常見的半導(dǎo)體術(shù)語做一個歸納總結(jié)，有些術(shù)語會做必要的解釋。

  TOM聊芯片智造

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  2024/09/19

  半導(dǎo)體制造 光刻技術(shù)

  
• 面試 | 光刻工藝,晶圓制造,CMP,PIE工程師面試問題合集

  本篇匯集了關(guān)于光刻工藝、晶圓制造相關(guān)崗位，以及FPGA工程師面試時的常見問題。且在持續(xù)更新中……? 切記收藏哦！

  與非網(wǎng)

  3820

  2024/08/13

  FPGA 晶圓制造

  
• 負膠的Undercut在lift-off工藝中的應(yīng)用

  ?光刻工藝中負膠因為粘度偏大，和正膠相反的曝光模式，被廣泛應(yīng)用，但是負膠精度沒有正膠好，容易顯影變形，價格也普遍相對較貴。

  芯片工藝技術(shù)

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  2024/08/12

  光刻技術(shù) Lift off工藝
• 光刻技術(shù)，有了新選擇

  光刻工藝是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。

  半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫

  3365

  2024/08/08

  光刻技術(shù) 電子束

  
• 光刻工藝面試問題干貨

  光刻的基本工藝流程：光刻工藝主要包括涂膠（spin coating）、軟烘（soft bake）、對準（alignment）、曝光（exposure）、顯影（developing）和硬烘（hard bake）。在這些步驟中，光刻膠被涂覆在晶圓表面，通過曝光和顯影形成特定的圖案。

  老虎說芯

  2898

  2024/08/07

  光刻技術(shù)

  
• 面試 | 如果我是光刻工藝面試官，會問哪些問題？

  學(xué)員問：up能出一期光刻工藝工程師職場就業(yè)相關(guān)面試問題啥的嗎？基本問題：介紹光刻的基礎(chǔ)概念，包括其基本工藝流程、什么是關(guān)鍵尺寸、光譜范圍、分辨率，數(shù)值孔徑，overlay的概念等。比較和對比負性光刻膠和正性光刻膠的主要差異。

  TOM聊芯片智造

  3599

  2024/08/06

  光刻技術(shù)

  
• 晶圓Fab廠Photo工藝工程師

  Fab中有很多道工序，cvd，pvd，photo，etch，wet，cmp，imp，diff，thermal等。photo（光刻）在晶圓制造的多個工藝中都會出現(xiàn)，目前光刻機也是國產(chǎn)廠商還沒有突破的核心裝備之一。光刻工程師既要有扎實的理論知識，又要保持腦子清醒，同時具備嚴密的數(shù)據(jù)分析能力，才能把photo這道工藝調(diào)好。Photo工藝工程師一般向工藝主管匯報工作。

  老虎說芯

  2215

  2024/07/11

  晶圓制造 fabless
• 行業(yè)數(shù)據(jù)：全球光刻掩模版供應(yīng)商列表

  在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻工藝可以說是所有制造環(huán)節(jié)里最復(fù)雜的一道了。由此，無論是光刻機還是光刻膠都是大家關(guān)注的焦點，甚至在網(wǎng)絡(luò)上也成為了熱門話題不過相對而言，似乎光刻掩模版相關(guān)的話題熱度就少了很多。其實這個領(lǐng)域也并不簡單，在光刻掩模版及其上游供應(yīng)鏈里也存在著大量的機會，值得行業(yè)關(guān)注

  半導(dǎo)體綜研

  1553

  2023/10/30

  光刻技術(shù) 掩模光刻

  
• 2023 | 第七屆國際先進光刻技術(shù)研討會舉辦通知

  第七屆國際先進光刻技術(shù)研討會 （IWAPS 2023） 近年來，集成電路產(chǎn)業(yè)已經(jīng)成為世界各國越來越重視的戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)，尤其在中國，集成電路產(chǎn)業(yè)受到了前所未有的關(guān)注，并在政策和資本的推動下獲得了蓬勃發(fā)展?；谶@樣的形勢，國際先進光刻技術(shù)研討會(International Workshop on Advanced Patterning Solutions, IWAPS)應(yīng)運而生。IWAPS為來自國內(nèi)外半

  與非網(wǎng)編輯

  2190

  2023/09/18

  集成電路產(chǎn)業(yè) IEEE

  

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