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光刻工藝中，什么是Binary mask和Phase Shift Mask？一次講明白！
在半導(dǎo)體光刻技術(shù)中，光掩模（Photo mask）是芯片制造的核心工具之一，其作用類似于傳統(tǒng)照相的底片，通過(guò)控制光線透射或阻擋，將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片制程不斷微縮至納米級(jí)，掩模技術(shù)也在持續(xù)演進(jìn)。其中，

國(guó)芯制造

2096

05/06 16:09

光刻技術(shù) 光掩膜版
全球半導(dǎo)體光刻掩模版及配套材料供應(yīng)商整理（73家）
網(wǎng)上做光刻機(jī)科普的文章一大堆，光刻膠的介紹相對(duì)較少，而掩模版相關(guān)的資料就更少了在這里，我根據(jù)我一點(diǎn)有限的知識(shí)，也給大家簡(jiǎn)單講解一下：客觀來(lái)說(shuō)，單憑光刻掩模版幾個(gè)字是無(wú)法討論和判斷技術(shù)難度的。掩模版并不僅僅是用在半導(dǎo)體領(lǐng)域，印刷電路版、顯示面板、硬盤(pán)、乃至其它各種微圖形加工的領(lǐng)域里，我們都有機(jī)會(huì)用到掩模版

半導(dǎo)體綜研

784

05/06 10:35

掩模光刻
從設(shè)計(jì)到做出一張光刻掩模版要多久？
學(xué)員問(wèn)：光刻掩模版是如何做出來(lái)的，麻煩詳細(xì)講解下。設(shè)計(jì)分為四步：1. 討論工藝步驟（約1小時(shí)）：工藝人員和設(shè)計(jì)人員會(huì)首先討論掩膜板的設(shè)計(jì)要求，明確最終所需的圖案、分辨率以及工藝需求。

TOM聊芯片智造

1587

2024/09/25

掩模光刻
行業(yè)數(shù)據(jù)：全球光刻掩模版供應(yīng)商列表
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻工藝可以說(shuō)是所有制造環(huán)節(jié)里最復(fù)雜的一道了。由此，無(wú)論是光刻機(jī)還是光刻膠都是大家關(guān)注的焦點(diǎn)，甚至在網(wǎng)絡(luò)上也成為了熱門(mén)話題不過(guò)相對(duì)而言，似乎光刻掩模版相關(guān)的話題熱度就少了很多。其實(shí)這個(gè)領(lǐng)域也并不簡(jiǎn)單，在光刻掩模版及其上游供應(yīng)鏈里也存在著大量的機(jī)會(huì)，值得行業(yè)關(guān)注

半導(dǎo)體綜研

1555

2023/10/30

光刻技術(shù) 掩模光刻
深度丨當(dāng)EUV薄膜成為“高精尖”芯片良率的關(guān)鍵
近20年來(lái)，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。近幾年來(lái)，隨著EUV光源的不斷進(jìn)展，EUV掩模開(kāi)始位居三大技術(shù)挑戰(zhàn)之首，而EUV掩模最困難的環(huán)節(jié)之一就是EUV薄膜。

AI芯天下

2504

2023/09/14

EUV 掩模光刻

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