知識星球（星球名：芯片制造與封測技術(shù)社區(qū)，星球號：63559049）里的學(xué)員問：光刻掩模版是如何做出來的，麻煩詳細講解下。

設(shè)計分為四步：

1. 討論工藝步驟（約1小時）：工藝人員和設(shè)計人員會首先討論掩膜板的設(shè)計要求，明確最終所需的圖案、分辨率以及工藝需求。

2. CAD設(shè)計布局（約2周）：研究人員使用CAD等軟件進行掩膜圖案的設(shè)計。

3. 檢查CAD布局（約30分鐘）：在設(shè)計完成后，技術(shù)人員會檢查設(shè)計的正確性和符合性。確保所有圖形和布線與工藝需求相符，避免后續(xù)制作中的問題。

4. 文件轉(zhuǎn)換為GDS II格式（約30分鐘）：將CAD文件轉(zhuǎn)換為GDS II格式，這是掩膜制造中的標準文件格式，便于電子束曝光機，激光直寫設(shè)備識別。GDS II文件包含了所有光刻層的幾何信息。

掩模版的制作環(huán)節(jié)：

5. 圖形曝光（約4.5小時）：將GDS II文件導(dǎo)入電子束曝光機，激光直寫機臺中，按照設(shè)計的圖形進行無掩膜曝光。

6. 顯影光刻膠（約5分鐘）：曝光后的掩膜板會經(jīng)過顯影工藝，將未曝光部分的光刻膠去除，留下圖形區(qū)域。

7. 鉻刻蝕（約5分鐘）：刻蝕掉暴露的鉻層，形成圖案化的掩膜。鉻具有良好的遮光性，很適合做遮光材料。帶有Cr層的石英由供應(yīng)商提供。

8. 檢查完成的掩膜板（約10分鐘）：最后，經(jīng)過顯微檢查或自動檢測設(shè)備對掩膜板進行檢查，確保圖案精確度、線寬、缺陷等指標符合要求。

一共需要時間兩周多的時間可以制造出一張光刻掩模版。