上期文章中，我們列舉了ASML的G線，i線光刻機(jī)型號(hào)，見(jiàn)文章：ASML的光刻機(jī)型號(hào)匯總(上)

本期，我們要羅列下ASML的EUV光刻機(jī)的型號(hào)及主要技術(shù)參數(shù)。

ASML公司的EUV介紹極紫外光刻 (EUV) 技術(shù)使用波長(zhǎng)為13.5納米的光。高能激光聚焦在熔融錫的微小液滴上，產(chǎn)生等離子體并發(fā)射出EUV光。錫滴的溫度可達(dá)到 220,000 攝氏度——是太陽(yáng)平均表面溫度的 40 倍。

然后，光線通過(guò)蔡司鏡反射到晶圓表面，從而在晶圓上呈現(xiàn)出芯片的設(shè)計(jì)的圖案。截至 2022 年，ASML 已出貨約 140 臺(tái) EUV 系統(tǒng)，而且它是唯一一家制造EUV的公司。

ASML 最暢銷的 EUV 產(chǎn)品是 TWINSCAN NXE:3600D，其售價(jià)高達(dá) 2 億美元。這臺(tái)光刻機(jī)約180噸，卡車大小的體積，需要用三架波音 747運(yùn)輸。ASML的EUV光刻機(jī)主要是TWINSCAN NXE，TWINSCAN EXE系列，見(jiàn)下表：

下期我們會(huì)總結(jié)ASML公司DUV光刻機(jī)型號(hào)。

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